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原位納米壓痕儀設計避免了橫向位移的影響

更新時間:2022-11-23      點擊次數:1092
   原位納米壓痕儀所有的納米壓痕試驗都取決加載和位移數據,要求對加載到樣品上的載荷有 的控制。納米壓痕儀采用電磁驅動的載荷裝置,從而保證測量的度,設計避免了橫向位移的影響。
  納米壓痕儀的杰出設計帶來很多的便利性,包括方便的測試到整個樣品臺, 的樣品定位,方便的確定樣品位置和測試區域,簡便的樣品高度調整,以及快速的測試報告輸出。模塊化的控制器設計為今后的升級帶來極大的方便。
  增強的載荷加載系統
  是具有從納牛到牛頓 為完整的加載力范圍,并且不同的加載裝置可自動軟件切換,整個測試流程都是全自動的,極大的提高了測試數據的可靠性和可重復性,避免了可能的人為因素的影響,確保每個測試都是合理、一致。
  標準的加載裝置
  標準配置是 XP 加載系統 ( 為500mN), 位移分辨率< 0.01納米, 壓入深度> 500 微米,該裝置可應用到所有的測試功能。壓頭更換輕松完成,非常好的機架剛度極大的減少了系統對測試的影響。
  高精度加載裝置
  原位納米壓痕儀是高分辨的納米納牛力加載模塊,它既可以單獨工作,也可以作為一個附件與Nano Indenter G200 協同工作。由于其慣性質量很低,使得納米壓痕中的初始表面的選取更加靈敏,DCM II 在超低載荷下的納米壓痕測試具有的 度和可重復性,由于它自身的空載共振頻率遠高于一般建筑物的振動頻率,這就使得一般的環境振動對它幾乎沒有影響,DCM II 具有很寬的動態頻率范圍 (0.1 Hz 到 300 Hz),所有這些特點使得 DCM II 可以提供同類設備不可比擬的高信噪比和高可靠性的試驗數據,例如右圖所示的藍寶石上三個納米深度的壓痕測試,在幾個納米的壓痕深度范圍內獲得了非常可靠的彈性模量。
  此外, 的第五代 G200 型納米壓痕儀符合各種 標準,保證了數據的完整性。客戶可以通過每個力學傳感器自主設計試驗,在任何時候對其進行切換,同時整個設備占地面積小,適合各種實驗室環境。

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